第一四七五章 90nm光刻机（2 / 2）

2000年12月底，孙健怂恿中村三郎代表曙光东芝晶圆公司，从东芝公司引进一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线，但遭到日本半导体协会拒绝；曙光东芝晶圆公司花费15亿美元（包括从BSEC采购40台250nm制程工艺的光刻机）从日本引进了一条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线，如今还处于设备安装阶段，9月下旬试生产。

国内有了二条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线，台积电、三星都只有一条。

京城半导体公司（BSEC）研制成功的90nm制程工艺的光刻机虽然比GCA和Nikon晚了近三年的时间，比ASML、Canon、SVG晚了一年多的时间，但已经是一项了不起的成就。美西方国家禁止出口最先进的技术和生产线给国内，孙健多次遭遇「有米无锅」的局面。

1993年3月，孙健奉命接手工业部四十五所、中K院微电子研究中心和中K院沪海光学精密机械研究所及其配套工厂，组建BSEC，BSEC生产的光刻机，制程工艺同GCA和Nikon相比，相差四代，落后20年都不止！

BSEC同中K院、华清、燕大、哈工大、国科大、华中大学、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂、金城金属气体厂等97家科研院所和公司长期保持合作关系，联合开发单晶硅、光源材料、激光器材料和光刻气体等技术攻关项目。

半导体产业发展日新月异，要不是全球光刻机产业被193nm波长的世界性光学难题卡住了，GCA和Nikon早就研制65nm制程工艺，甚至40nm制程工艺的光刻机了。

一步先步步先，光刻机的制程工艺不是花钱就能迅速解决的技术难题。

孙健将BSEC赶上GCA和Nikon的希望主要寄托在全球光刻机产业被